1.新型双面抛光机传动结构设计
为实现新型双面抛光机各部分运动，可以采用所示结构。上抛光盘7旋转或固定，下抛光盘3由电机17通过皮带、齿轮机构18、轴套23、下底板3带动作旋转运动;控制装置控制内外运行装置作等距离圆平动及公转运动，各工件载体由内外运行装置带动作相同运动。控制装置分为2部分，第1部分控制外运行装置作圆平动(摆动)，伺服电机19通过齿轮传动机构20驭动齿轮21.各外运动装置22与各齿轮21固连，带动多个外运动装ff的转盘运转.使装在转盘上的外偏心臂同向同速旋转;伺服电机13通过齿轮传动机构12轴套24及齿轮25驱动齿轮6.各内运动装置与各齿轮6固连.带动多个内运动装置的转盘运转.使装在转盘上的内偏心臂同向同速旋转(或摆动)。

2.新型双面抛光机运动分析
各载体运动相同，以单个载体的运动进行分析。坐标系下，若偏心臂以恒定角速度。匀速转动，xoy是固定坐标系.其原点位于内外转盘中心线的中点o.x,o,y为原点位于载体中心o’的动坐标系，随载体一起作平动.动坐标系xoy内一坐标为(x,y)的定点在静坐标系.xoy内对应的点为(x,y).则有（公式略）

3.结语
该新型双面抛光机具有圆平动(或摆动)方式下恒速变向抛光的优点.且能把抛光压力均匀压在载体内的工件上，体积小，结构紧凑。具有较为理想的抛光轨迹形态以及恰当的抛光机的抛光轨迹密度分布，可以有效减少工件的畸变、减小抛光盘的磨损变形、减少抛光盘修整次数。提高工件的加工效率和加工精度.降低工件表面的粗糙度，为硅晶片获得纳米级加工精度的超光滑加工表面创造了有利条件。